在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

1、在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。A刻蚀B氧化C淀积D光刻

2、简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

3、光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。A正确B错误

4、超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A高分辨率B高灵敏度C精密的套刻对准D大尺寸E低缺陷

5、有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。A正确B错误

6、光刻和刻蚀的目的是什么？

光刻和刻蚀的目的是什么？