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问题

萃取系统二次水洗的主要目的是()。


萃取系统二次水洗的主要目的是()。

  • A降温
  • B回收DMF
  • C清除丁二烯过氧化物
  • D降低系统DMF含量,为检修创造条件
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分类:丁二烯装置操作工题库,测井工考试题库
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