光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

1、简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

2、超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A高分辨率B高灵敏度C精密的套刻对准D大尺寸E低缺陷

3、采用集成制造工艺，最容易制作的元件是（）.

采用集成制造工艺，最容易制作的元件是（）.AA、电感BB、变压器CC、大电容DD、交流电阻

4、集成电路制造工艺中，主要有哪两种隔离工艺？目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器

集成电路制造工艺中，主要有哪两种隔离工艺？目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺，为什么？

5、在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A正确B错误

6、光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率

光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？