由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）

1、由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（）

由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（）A粘污随时间的延长而减少B在较高的温度下，粘污较小C只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污D在沉淀前，调节溶液...

2、（）具有停留时间短、沉淀效率高、节省占地等优点，但存在斜管费用较高，而且需要

（）具有停留时间短、沉淀效率高、节省占地等优点，但存在斜管费用较高，而且需要定期更新等问题。AA、平流沉淀池BB、斜管（板）沉淀池CC、脉冲澄清池DD、悬浮澄清池

3、由于获得沉淀产生弥散强化所需要的钒，钛，铌等合金元素含量非常少，所以这常被称

由于获得沉淀产生弥散强化所需要的钒，钛，铌等合金元素含量非常少，所以这常被称为“（）”A合金化B微合金化C低合金化D高合金化

4、由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）。

由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）。A玷污随时间的延长而减少B在较高的温度下，玷污较小C只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D在沉淀前，调节溶...

5、因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）。

因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）。A随时间的延长而减少B在较高的温度下，沾污较少C只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾...

6、由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（）。

由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（）。A粘污随时间的延长而减少B在较高的温度下，粘污较小C只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污D在沉淀前，调节溶...