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化学沉铜孔壁无铜,可能原因是去钻污不彻底。


化学沉铜孔壁无铜,可能原因是去钻污不彻底。

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下列是()目前去钻污流程使用最广泛的方法。AA、浓硫酸法BB、铬酸法CC、等离子体法DD、高锰酸钾法

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高锰酸钾法在去钻污时将胶渣氧化成的气体是()。AA、二氧化碳气体BB、氧气CC、水气DD、氢气

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