氧化还原滴定曲线电位突跃的大小与()。
- AA、氧化剂电对条件电位有关
- BB、还原剂电对条件电位有关
- CC、氧化剂电对标准电位有关
- DD、氧化剂与还原剂两电对的条件电位之差有关
氧化还原滴定曲线电位突跃的大小与()。
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1、除溶液的pH外,配位滴定中滴定曲线的突跃范围的大小主要取决于()和()。随着
除溶液的pH外,配位滴定中滴定曲线的突跃范围的大小主要取决于()和()。随着溶液pH值增大,滴定的突跃范围变(),滴定的选择性变()
2、氧化还原滴定曲线()的大小与氧化剂和还原剂两电对的电极势差有关。
氧化还原滴定曲线()的大小与氧化剂和还原剂两电对的电极势差有关。A电位差B变化C突跃范围D弯曲
酸碱滴定曲线突跃范围大小与()和()有关。
沉淀滴定的滴定曲线的突跃范围的大小与()有关。A溶液中卤化物的原始浓度B沉淀物的溶解度C溶液的酸度D干扰情况
氧化还原滴定过程中,电极势在化学()附近有一个突跃。A等当点B记录点C平衡点D计量点
6、在氧化还原滴定中,用指示剂目测终点时,通常要求等当点附近()以上的突跃。
在氧化还原滴定中,用指示剂目测终点时,通常要求等当点附近()以上的突跃。A0.1VB0.2VC0.4VD0.05V