什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

1、解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

2、光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率

光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

3、光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。A涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D前烘、涂胶、曝光、坚...

4、什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？

什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？

5、光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类

光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

6、光刻的作用是什么？

光刻的作用是什么？