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为了保持优良的结晶性能,提高制膜速度,除了要采用();()投入外,多数也采用


为了保持优良的结晶性能,提高制膜速度,除了要采用();()投入外,多数也采用导入电源频率为60MHz---100MHz的VHF带等离子体的CVD法。

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