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制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些


制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。

  • A半导体材料的霍尔常数比金属的大
  • B半导体中电子迁移率比空穴高
  • C半导体材料的电子迁移率比较大
  • DN型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
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分类:传感器技术题库,电子与通信技术题库
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