记存模型的用途（）。

1、记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的

记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的A6倍B5倍C4倍D2倍E3倍

2、记存模型后壁距离最后一个牙（）

记存模型后壁距离最后一个牙（）A近中约1／2牙冠宽B远中约1/2牙冠宽C中间约1／2牙冠宽D近中约1个牙冠宽E远中约1个牙冠宽

3、记存模型座的厚度约为尖牙到前庭沟底总高度的（）

记存模型座的厚度约为尖牙到前庭沟底总高度的（）A1／3B2／3C1／2D1／4E3／4

4、记存模型要求准确、完整，但不包括（）。

记存模型要求准确、完整，但不包括（）。A基骨B移行皱襞C腭穹隆D唇系带E颊黏膜

5、记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的

记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的A1/3～1/2倍B1～1.5倍C1.5～2倍D2.5～3倍E1/5～1/4

6、记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）

记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）A1／3～1／2B1／4～1／2C2／3～3／4D1／5～1／3E1／2～3／4