在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。

1、用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。

用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。AARCBHMDSC正胶D负胶

2、在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。ADQNBCACARCDPMMA

3、最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A正确B错误

4、例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

5、光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。

光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。A电子束曝光技术B离子束曝光技术CX射线曝光技术

6、在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。

在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。A化学增强B化学减弱C厚度增加D厚度减少