例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

1、例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。

例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。

2、在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。ADQNBCACARCDPMMA

3、例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测试（第十九章）

例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测试（第十九章）

4、在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。

在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。ACA光刻胶对深紫外光吸收小BCA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化CCA光刻胶在显影液中的可溶性强D有较高的光敏度E有较高的对比度

5、例举并描述金属用于硅片制造的7种要求。

例举并描述金属用于硅片制造的7种要求。

6、例举并描述热生长SiO2–Si系统中的电荷有哪些？

例举并描述热生长SiO2–Si系统中的电荷有哪些？