金属-SiO2-p型Si构成的MIS结构中，SiO2中分布的可动正电荷不会影

1、在MIS结构的金属栅极和半导体上加一变化的电压，在栅极电压由负值增加到足够大

在MIS结构的金属栅极和半导体上加一变化的电压，在栅极电压由负值增加到足够大的正值的的过程中，如半导体为P型，则在半导体的接触面上依次出现的状态为（）。A少数载流子反型状...

2、SiO2还原Si的开始温度为（）

SiO2还原Si的开始温度为（）A1200～1400℃B1600～1700℃C1800～1900℃D1400～1600℃

3、炼钢中，Si+O2＝SiO2是吸热反应。

炼钢中，Si+O2＝SiO2是吸热反应。A正确B错误

4、二价金属氧化物对Si-O玻璃的结构和性能有何影响？

二价金属氧化物对Si-O玻璃的结构和性能有何影响？

5、例举并描述热生长SiO2–Si系统中的电荷有哪些？

例举并描述热生长SiO2–Si系统中的电荷有哪些？

6、CCD的基本构成是（）结构，它是利用在电极下SiO2-半导体界面形成的（）层

CCD的基本构成是（）结构，它是利用在电极下SiO2-半导体界面形成的（）层进行工作的