（）画面主要功能是在分子筛再生脱水系统的自动程序不运行时对各个阀及11-LC

1、分子筛脱水工艺中，用于再生的气流露点愈高，则要达到一定的再生质量所需要的再生

分子筛脱水工艺中，用于再生的气流露点愈高，则要达到一定的再生质量所需要的再生温度（）AA、愈高BB、愈低CC、两者无关DD、不一定

2、分子筛脱水再生控制系统根据（）的原理使分子筛获得再生并进行循环使用

分子筛脱水再生控制系统根据（）的原理使分子筛获得再生并进行循环使用AA、固体排斥BB、冷却凝固CC、固体吸附DD、加热蒸发

3、脱水分子筛再生时适合的操作条件是（）。

脱水分子筛再生时适合的操作条件是（）。AA、高温低压BB、高温高压CC、低温低压

4、分子筛脱水再生温度通常在（）。

分子筛脱水再生温度通常在（）。AA、100～200℃BB、200～300℃CC、300～400℃DD、400～500℃

5、分子筛脱水再生控制系统正压防爆系统盘内正压值：（）PA

分子筛脱水再生控制系统正压防爆系统盘内正压值：（）PAAA、100～200BB、100～320CC、200～320DD、50～150

6、分子筛脱水再生控制系统正压防爆系统环境温度要求：（）℃

分子筛脱水再生控制系统正压防爆系统环境温度要求：（）℃AA、-20～+100BB、20～50CC、-20～+25DD、-20～+50