记存模型要求准确、完整，但不包括（）。

1、记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的

记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的A6倍B5倍C4倍D2倍E3倍

2、记存模型后壁距离最后一个牙（）

记存模型后壁距离最后一个牙（）A近中约1／2牙冠宽B远中约1/2牙冠宽C中间约1／2牙冠宽D近中约1个牙冠宽E远中约1个牙冠宽

3、记存模型的用途（）。

记存模型的用途（）。A模型测量分析B牙排列实验C制作保持器D治疗前后的疗效评估E以上都不是

4、记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的

记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的A1/3～1/2倍B1～1.5倍C1.5～2倍D2.5～3倍E1/5～1/4

5、记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）

记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）A1／3～1／2B1／4～1／2C2／3～3／4D1／5～1／3E1／2～3／4

6、记存模型的用途有（）。

记存模型的用途有（）。A可作为研究分析错的重要手段B可用于确定治疗计划C在治疗过程中可作对照观察D其治疗前后的模型可进行疗效评估E可用于做下颌功能分析