不正确的刻蚀将导致硅片报废，给硅片制造公司带来损失。

1、芯片硅片制造厂可以分为6个独立的生产区：扩散区、（）、刻蚀区、（）、（）和抛

芯片硅片制造厂可以分为6个独立的生产区：扩散区、（）、刻蚀区、（）、（）和抛光区。

2、离子注入中静电扫描的主要缺点是离子束不能垂直轰击硅片，会导致光刻材料的阴影效

离子注入中静电扫描的主要缺点是离子束不能垂直轰击硅片，会导致光刻材料的阴影效应，阻碍离子束的注入。A正确B错误

3、离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部

离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。A正确B错误

4、将硅单晶棒制成硅片的过程包括哪些工艺？

将硅单晶棒制成硅片的过程包括哪些工艺？

5、在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A正确B错误

6、净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。

净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。A颗粒B金属C有机分子D静电释放（ESD）E水