刻蚀是用（）或（）有选择地从硅片表面去除不需要材料的工艺过程，其基本目标是（

1、芯片硅片制造厂可以分为6个独立的生产区：扩散区、（）、刻蚀区、（）、（）和抛

芯片硅片制造厂可以分为6个独立的生产区：扩散区、（）、刻蚀区、（）、（）和抛光区。

2、不正确的刻蚀将导致硅片报废，给硅片制造公司带来损失。

不正确的刻蚀将导致硅片报废，给硅片制造公司带来损失。A正确B错误

3、汽车硅整流发电机定子铁心是用厚度为（）mm硅片叠成。

汽车硅整流发电机定子铁心是用厚度为（）mm硅片叠成。A0.25～0.5B0.5～1.0C1.0～1.5D1.5～2.0

4、静密封一般有：（），它是通过加工精度和表面粗糙度密合，（），它是用添加漆片或

静密封一般有：（），它是通过加工精度和表面粗糙度密合，（），它是用添加漆片或密封胶密封；（）它是用刚性不大的垫片加入密封面密封。

5、集成电路中的元件是用（）的工艺在同一块硅片上大批制造的，所以其性能比较一致。

集成电路中的元件是用（）的工艺在同一块硅片上大批制造的，所以其性能比较一致。A特殊B专用C相同D不同

6、简述硅片表面污染的来源。

简述硅片表面污染的来源。