蚀刻溶液中的氧化剂为()。
- A氯化铜
- B氯化钠
- C氯化铵
- D氯化氢
1、碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时,蚀刻速率慢,溶液稳定性差。
碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时,蚀刻速率慢,溶液稳定性差。A正确B错误
拜耳法生产氧化铝溶液中的Na2OK包括()。A与氧化铝反应生成铝酸钠的Na2OKBNaOH形态存在的Na2OKCNa2CO3的Na2OKDNa2SO4的Na2OK
3、催化剂分析浓度不合格,可以不用补正而是调节加入系统中的催化剂溶液进料量。()
催化剂分析浓度不合格,可以不用补正而是调节加入系统中的催化剂溶液进料量。()A正确B错误
4、在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中,由于氯气是强氧化剂,直接通氯气是再生的最
在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中,由于氯气是强氧化剂,直接通氯气是再生的最好方法。是因为()。A成本低B再生速率快C无污染D设备简单
5、湿法蚀刻时蚀刻液的腐蚀是各向同性的,腐蚀发生在和溶液接触的各个方面。
湿法蚀刻时蚀刻液的腐蚀是各向同性的,腐蚀发生在和溶液接触的各个方面。A正确B错误
6、电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?
电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()