光刻和刻蚀的目的是什么？

1、在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A正确B错误

2、什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

3、什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？

什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？

4、有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。A正确B错误

5、什么是正光刻胶，负光刻胶？

什么是正光刻胶，负光刻胶？

6、微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LI

微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。