可能成为龋的进展通道的结构是（）

1、可能成为龋的进展通道的结构是（）

可能成为龋的进展通道的结构是（）A釉小皮B釉丛C釉梭D釉柱E釉板

2、在I/O设备、数据通道、时钟和软件这4项中，可能成为中断源的是（）。

在I/O设备、数据通道、时钟和软件这4项中，可能成为中断源的是（）。AI/O设备BI/O设备和数据通道CI/O设备、数据通道和时钟DI/O设备、数据通道、时钟和软件

3、可能成为龋的进展通道的结构是（）

可能成为龋的进展通道的结构是（）A釉小皮B釉丛C釉梭D釉柱E釉板

4、釉质龋的发展过程中，损害进展的最前沿是（）

釉质龋的发展过程中，损害进展的最前沿是（）A透明带B损害体部C暗带D破坏层E细菌侵入区

5、窝沟龋与釉质平滑面龋的进展有何不同？

窝沟龋与釉质平滑面龋的进展有何不同？

6、釉质龋的发展过程中，损害进展的最前沿是()

釉质龋的发展过程中，损害进展的最前沿是()AA．透明带BB．损害体部CC．暗带DD．破坏层EE．细菌侵入区