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SiHCl3还原法制备晶体硅,在生产过程中不需要控制()。


SiHCl3还原法制备晶体硅,在生产过程中不需要控制()。

  • AA.反应温度在280℃~300℃之间
  • BB.硅粉与HCl在进入反应炉前要充分干燥
  • CC.晶体生长速度
  • DD.合成时加入少量的催化剂,可降低温度
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分类:太阳能光伏发电技术题库,能源科学技术题库
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