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SiHCl3还原法制备晶体硅，在生产过程中不需要控制（）。

SiHCl3还原法制备晶体硅，在生产过程中不需要控制（）。

AA.反应温度在280℃~300℃之间
BB.硅粉与HCl在进入反应炉前要充分干燥
CC.晶体生长速度
DD.合成时加入少量的催化剂，可降低温度

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分类：太阳能光伏发电技术题库,能源科学技术题库

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