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()的气体源中一般包含H+,C+,B+,Cl+,O+等离子。


()的气体源中一般包含H+,C+,B+,Cl+,O+等离子。

  • ACl2
  • BBCl3
  • CCO2
  • DH2
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分类:集成电路制造工艺员(三级)题库,集成电路制造工艺员题库
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