一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
- A不做处理，让患者将义齿戴走
- B腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C腭杆组织面缓冲
- D取下腭杆
- E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
问题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。
参考解析：
(E)腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。
分类：其他
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