晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和

1、蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有（）。

蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有（）。A增加二价铜离子的浓度B使一价铜生成配合物C使一价铜生成沉淀D减少二价铜离子的浓度

2、酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定，容易控制。

酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定，容易控制。A正确B错误

3、侧蚀程度的大小与蚀刻液的种类、组成和所使用的蚀刻工艺及设备有关。

侧蚀程度的大小与蚀刻液的种类、组成和所使用的蚀刻工艺及设备有关。A正确B错误

4、属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。

属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。A氯气再生B通氧气或压缩空气再生C电解再生D双氧水再生

5、酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。

酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。A正确B错误

6、在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最

在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最好方法。是因为（）。A成本低B再生速率快C无污染D设备简单