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干氧氧化法具备以下一系列的优点（）。

干氧氧化法具备以下一系列的优点（）。

A生长的二氧化硅薄膜均匀性好
B生长的二氧化硅干燥
C生长的二氧化硅结构致密
D生长的二氧化硅是很理想的钝化膜
E生长的二氧化硅掩蔽能力强

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分类：集成电路制造工艺员（三级）题库,集成电路制造工艺员题库

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