“PECVD”中文表述是()。
- A脉冲激光沉积
- B金属有机化学气相沉积
- C溅射
- D等离子体增强化学气相沉积
DT测试的中文表述是(),CQT测试中文表述是()。
2、缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是()、
缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是()、()、高密度等离子体化学气相淀积和()。
SWIFT中文全称表述为()。A环球银行金融电信协会B全球银行金融协会C国际金融标准化组织D国际银行同业合作组织
4、二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。
二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。
简述APCVD、LPCVD、PECVD的特点。
关于UPS设备的中文全称表述正确的是()A稳压电源系统B稳频电源系统C交流电源系统D不间断电源系统