在热扩散工艺中的预淀积步骤中，硼在900～1050℃的条件下，扩散时间大约（

1、在热扩散工艺中的预淀积步骤中，硼在950～1100℃的条件下，扩散时间大约（

在热扩散工艺中的预淀积步骤中，硼在950～1100℃的条件下，扩散时间大约（）为宜。A4～6hB50min～2hC10～40minD5～10min

2、CVD淀积过程中两个主要的限制步骤是什么？它们分别在什么情况下会支配整个淀积

CVD淀积过程中两个主要的限制步骤是什么？它们分别在什么情况下会支配整个淀积速率？

3、简述合金元素铬、锰在结构钢中的作用？硼在结构钢中的含量及作用如何？

简述合金元素铬、锰在结构钢中的作用？硼在结构钢中的含量及作用如何？

4、假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-

假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。

5、在热扩散工艺中的预淀积步骤中，磷的扩散温度为（）。

在热扩散工艺中的预淀积步骤中，磷的扩散温度为（）。A600～750℃B900～1050℃C1100～1250℃D950～1100℃

6、对于某种薄膜的CVD过程，淀积温度为900℃，质量传输系数hG=10cms-

对于某种薄膜的CVD过程，淀积温度为900℃，质量传输系数hG=10cms-1，表面反应速率系数ks=1×107exp（-1.9eV/kT）cms-1。现有以下两种淀积系统可供选择（1）冷壁，石墨支座型；（...