消除侧方干扰()
- AA.选磨应在非支持牙尖上
- BB.选磨牙为少数牙、应反复多次、直到所有非支持牙尖都有接触为止
- CC.每次只选磨单颌
- DD.要求患者作侧方咬合
- EE.若需选磨尖牙,多磨下尖牙唇斜面
消除侧方干扰()
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1、叠氮化钠修正法,主要消除()干扰,高锰酸钾修正法主要消除()的干扰,水样中含
叠氮化钠修正法,主要消除()干扰,高锰酸钾修正法主要消除()的干扰,水样中含有Fe3+时,可加入()消除。
全口义齿选磨侧方干扰点时,应选磨()A支持尖相对的中央窝B支持尖上的干扰点C非支持尖形成的干扰点D上尖牙的舌斜面E以调磨下尖牙的唇斜面为主
全口义齿初戴,侧方工作侧前牙的干扰,通常以选磨()A上颌尖牙B下颌后牙C上颌后牙D下颌前牙E下颌尖牙
4、FR矫治器颊屏的上颌部分与上牙槽间应有多大的间隙才利于消除颊肌对上颌侧方的力
FR矫治器颊屏的上颌部分与上牙槽间应有多大的间隙才利于消除颊肌对上颌侧方的力()A4mmB2.5mmC3.5mmD3mmE4.5mm
全口义齿选磨侧方颌的干扰时,应选磨()A支持尖相对的中央窝B支持尖上的牙合干扰点C非支持尖成的牙合干扰点D上尖牙的舌斜面E以调磨下尖牙的唇斜面为主
6、全口义齿选磨侧方干扰点时,应选磨()。 在调磨尖牙侧干扰时,通常选磨()。
全口义齿选磨侧方干扰点时,应选磨()。在调磨尖牙侧干扰时,通常选磨()。