由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的粘污,其方法是()
- A粘污随时间的延长而减少
- B在较高的温度下,粘污较小
- C只有在沉淀物生成后,加入杂质才会造成粘污
- D在沉淀前,调节溶液的pH可以控制粘污的发生
- E改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的粘污,其方法是()
引入杂质的量与陈化时间有关,陈化时间愈长,引入杂质量愈多;温度升高,后沉淀现象有时更严重;不论杂质是在沉淀之前存在还是在沉淀之后加入,引入杂质的量基本一致;改变沉淀剂的浓度只在共沉淀现象中起作用。
1、()具有停留时间短、沉淀效率高、节省占地等优点,但存在斜管费用较高,而且需要
()具有停留时间短、沉淀效率高、节省占地等优点,但存在斜管费用较高,而且需要定期更新等问题。AA、平流沉淀池BB、斜管(板)沉淀池CC、脉冲澄清池DD、悬浮澄清池
2、由于获得沉淀产生弥散强化所需要的钒,钛,铌等合金元素含量非常少,所以这常被称
由于获得沉淀产生弥散强化所需要的钒,钛,铌等合金元素含量非常少,所以这常被称为“()”A合金化B微合金化C低合金化D高合金化
3、由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的玷污,其方法是()。
由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的玷污,其方法是()。A玷污随时间的延长而减少B在较高的温度下,玷污较小C只有在沉淀物生成后,加入杂质才会造成玷污D在沉淀前,调节溶...
因为存在着后沉淀现象,所以沉淀物的沾污程度()。A随时间的延长而减少B在较高的温度下,沾污较少C只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D在沉淀前,调节溶液的pH可以控制沾...
5、由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的玷污,其方法是()
由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的玷污,其方法是()A玷污随时间的延长而减少B在较高的温度下,玷污较小C只有在沉淀物生成后,加入杂质才会造成玷污D在沉淀前,调节溶液...
6、由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的粘污,其方法是()。
由于存在着后沉淀现象,需要控制沉淀物的粘污,其方法是()。A粘污随时间的延长而减少B在较高的温度下,粘污较小C只有在沉淀物生成后,加入杂质才会造成粘污D在沉淀前,调节溶...