一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是()
- A不做处理,让患者将义齿戴走
- B腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C腭杆组织面缓冲
- D取下腭杆
- E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是()
1、一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。A不做处理,让患者把义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E...
2、一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()A取下腭杆B腭杆组织面做缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,...
3、一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A不做处理,让患者将义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下...
4、一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是().A取下腭杆B腭杆组织面做缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,...
5、患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义...
6、患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义...