光刻

1、对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。

对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。A正确B错误

2、解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

3、最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A正确B错误

4、光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率

光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

5、什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

6、如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。

如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。A正确B错误