氧化沟

1、氧化沟工艺一般不需要设置（）。

氧化沟工艺一般不需要设置（）。AA．二沉池BB．初沉池CC．曝气池DD．接触池

2、通常氧化沟不采用（）方式。

通常氧化沟不采用（）方式。A转碟曝气B倒伞表曝机曝气C转刷曝气D鼓风曝气

3、氧化沟工艺一般不需要设置 ( )。

氧化沟工艺一般不需要设置 ( )。A二沉池B初沉池C曝气池D接触池

4、氧化沟经常采用延时曝气，因此（）

氧化沟经常采用延时曝气，因此（）A污泥浓度高B泥龄长C污泥指数大D污泥沉降比大

5、氧化沟工艺具有（）的水力流态。

氧化沟工艺具有（）的水力流态。AA、顺流式BB、推流式和完全混合式CC、周进周出式DD、平流式

6、卡鲁塞尔2000氧化沟中前置反硝化区属于缺氧区，其有效容积占整个氧化沟有效容

卡鲁塞尔2000氧化沟中前置反硝化区属于缺氧区，其有效容积占整个氧化沟有效容积的（），在此区域中氮气从污水中逸出。AA、10%BB、12%CC、20%DD、40%