光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
- A涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
- B涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
- C涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
- D前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
问题
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
参考解析：
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分类：集成电路制造工艺员（三级）题库,集成电路制造工艺员题库
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