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将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光


将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。

  • A接触
  • B接近式
  • C投影
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分类:半导体芯片制造中级工题库,半导体芯片制造工题库
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