可学答题网 > 问答 > 集成电路工艺原理题库,电子与通信技术题库
目录: 标题| 题干| 答案| 搜索| 相关
问题

溅射镀膜


溅射镀膜

参考答案
参考解析:

暂无解析

分类:集成电路工艺原理题库,电子与通信技术题库
相关推荐

1、()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。A溅射率B溅射系数C溅射效率D溅射比

2、一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。A产生一个离子并导向靶B被轰击的原子向硅晶片运动C离子把靶上的原子轰出来D经过加速电场加速E原子在硅晶片表面凝结

3、带电冲洗绝缘子时,严防临近绝缘子在溅射的水雾中发生()。

带电冲洗绝缘子时,严防临近绝缘子在溅射的水雾中发生()。A自爆B闪络C破损D掉串

4、镀膜玻璃分为()镀膜玻璃和()镀膜玻璃。

镀膜玻璃分为()镀膜玻璃和()镀膜玻璃。

5、与普通溅射法相比,磁控溅射的特点是什么?

与普通溅射法相比,磁控溅射的特点是什么?

6、什么是溅射产额,其影响因素有哪些?简述这些因素对溅射产额产生的影响。

什么是溅射产额,其影响因素有哪些?简述这些因素对溅射产额产生的影响。