可学答题网 > 问答 > 集成电路工艺原理题库,电子与通信技术题库
目录: 标题| 题干| 答案| 搜索| 相关
问题

在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。


在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。

  • A正确
  • B错误
参考答案
参考解析:

暂无解析

分类:集成电路工艺原理题库,电子与通信技术题库