离子注入后为何退火？

1、离子注入

离子注入

2、离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。

离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。A能量B剂量

3、离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部

离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。A正确B错误

4、腹腔注入药物后，为何要变动体位？

腹腔注入药物后，为何要变动体位？

5、发变组装设安全措施前为何要停用定、转子接地保护注入单元？

发变组装设安全措施前为何要停用定、转子接地保护注入单元？

6、离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。

离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。A正确B错误