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光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类

光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

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