可学答题网 > 问答 > 半导体芯片制造高级工题库,半导体芯片制造工题库
目录: 标题| 题干| 答案| 搜索| 相关
问题

离子注入杂质浓度分布中最重要的二个射程参数是()和()。


离子注入杂质浓度分布中最重要的二个射程参数是()和()。

参考答案
参考解析:

暂无解析

分类:半导体芯片制造高级工题库,半导体芯片制造工题库
相关推荐

1、离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。

离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。A能量B剂量

2、离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。

离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。A正确B错误

3、在实际工作中,常常需要知道离子注入层内损伤量按()的分布情况。

在实际工作中,常常需要知道离子注入层内损伤量按()的分布情况。A长度B深度C宽度D表面平整度

4、感光板的二个重要的特性是()和()。

感光板的二个重要的特性是()和()。

5、对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。

对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。A入射离子的能量B入射离子的质量C入射离子的原子序数D靶原子的质量、原子序数、原子密度E注入离子的总剂量

6、在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。

在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。A正确B错误