离子注入杂质浓度分布中最重要的二个射程参数是()和()。
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离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。A能量B剂量
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2、离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。
离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。A正确B错误
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3、在实际工作中,常常需要知道离子注入层内损伤量按()的分布情况。
在实际工作中,常常需要知道离子注入层内损伤量按()的分布情况。A长度B深度C宽度D表面平整度
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感光板的二个重要的特性是()和()。
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对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。A入射离子的能量B入射离子的质量C入射离子的原子序数D靶原子的质量、原子序数、原子密度E注入离子的总剂量
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6、在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。
在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。A正确B错误