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当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。饱和正是对应连续()的形


当注入剂量增加到某个值时,损伤量不再增加,趋于饱和。饱和正是对应连续()的形成。

  • A非晶层
  • B单晶层
  • C多晶层
  • D超晶层
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分类:集成电路制造工艺员(三级)题库,集成电路制造工艺员题库
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