半导体级硅的纯度为99.9999999%。

1、在生产低碳钢中期，硅铁中硅的回收率一般为（）。

在生产低碳钢中期，硅铁中硅的回收率一般为（）。A0.8B0.9C0.7

2、常温下本征半导体硅的禁带宽度为（）eV。

常温下本征半导体硅的禁带宽度为（）eV。AA.1.12BB.2.14CC.1.42DD.0.92

3、用于生产半导体元件的多晶硅在拉制成单晶硅之前纯度必须达到的起码要求是（）

用于生产半导体元件的多晶硅在拉制成单晶硅之前纯度必须达到的起码要求是（）A9个9B8个9C7个9D6个9

4、球化孕育处理前，原铁水硅的含量为（）。

球化孕育处理前，原铁水硅的含量为（）。AA、0.8~1.2%BB、1.0~1.4%CC、1.4~2.0%DD、1.2~2.4%

5、在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清

在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。A蒸馏水B自来水C去离子水D矿泉水

6、制备半导体级硅的过程：1、（）；2、（）；3、（）。

制备半导体级硅的过程：1、（）；2、（）；3、（）。